В России к 2026 году могут создать отечественное литографическое оборудование для печати чипов на кремниевых пластинах согласно нормам 130–65 нм техпроцесса. Об этом пишет «Коммерсантъ» со ссылкой на данные тендера Минпромторга стоимостью 5,7 млрд, в рамках которого предполагается проведение разработки отечественной фотолитографической установки с минимальной топологией 130 нм.
Победителем конкурса стал АО «Зеленоградский нанотехнологический центр», который должен выполнить работы до ноября 2026 года. Согласно имеющимся данным, установка должна состоять из специального оптического устройства, в том числе системы загрузки фотошаблона, камеры с высокой точностью стабилизации температуры и программного обеспечения. «Одним из основных компонентов оборудования станет отечественный лазер. Мы рассматриваем несколько партнёров», — приводит источник слова генерального директора ЗНТЦ Анатолия Ковалёва.
По мнению специалистов, в случае успешной реализации данного проекта на разработанном оборудовании можно будет производить чипы топологией от 130 до 65 нм. Такие чипы продолжают оставаться востребованным продуктом для интернета вещей, кассового оборудования и автомобильной электроники. Источник отмечает, что компания Intel начала выпускать 65-нанометровые процессоры Pentium 4 ещё в 2006 году.
Отсутствие оборудования является одной из основных проблем развития отечественной отрасли радиоэлектроники. До 2030 года планируется осуществить разработку оборудования с проектными нормами 250–28 нм, а также решения для норм 22–20 нм и 16–14 нм, следует из отраслевой стратегии, утверждённой правительством РФ в январе 2020 года.
